window.DataLayer = window.DataLayer || []; RENA InOxSide+®, Nasschemisches Verarbeitungssystem | Lagerwerk

RENA InOxSide+®, Nasschemisches Verarbeitungssystem

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Artikel-Nr.: LW24292
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Vollautomatische, nasschemische, einseitige Ätzung in einem Inline-Prozess auf 5 Spuren Die... mehr
Artikel: "RENA InOxSide+®, Nasschemisches Verarbeitungssystem"

Vollautomatische, nasschemische, einseitige Ätzung in einem Inline-Prozess auf 5 Spuren

Die automatische Verarbeitungsanlage RENA InOxSide+® wurde als integrierte Lösung für die Kantenisolierung, Rückseitenpolitur und Entfernung von dotiertem Glas an Silizium-Solarzellen entwickelt. Dank eines Prozesses, der geringste Betriebskosten und die beste Leistung garantiert, bietet sich die InOxSide Technologie als beste Wahl bei der Herstellung von Al-BSF, PERC und PERT Silizium-Solarzellen an.

 

Areas of application:

  • Rear side polishing for high-efficiency solar cells, e.g. PERC and PERT
  • Junction isolation and PSG-removal
  • Designed for multi- and monocrystalline wafers
  • Wafer transfer systems available for automatic loading and unloading

 

Specific data:

Maximum Capacity [Wafer/h] 3000
Throughput [Wafer/h] 2.400
Uptime [%] 95
Breakage rate [%] 0,05
MTBF [hour] 800
MTTR [hour] 2,0
Wafer orientation [-] Sunny side UP
Noise level [dB] 70
Speed [m/min] 1,80

 

 

 

 

 

 



Wichtiger Hinweis:
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